DOI: 10.15330/pcss.17.4.630-636

С.П. Новосядлий, С.І. Бойко, М.В. Котик

Особливості формування багаторівневої металізації в субмікронних структурах великих інтегральних схем

ДВНЗ «Прикарпатський Національний університет ім. В. Стефаника», вул. Шевченка, 57, м. Івано-Франківськ, Україна, 76025, е-mail: nsp@mail.pu.if.ua

В даній статті проведено огляд сучасних алюмінієвих сплавів що використовуються при формуванні багаторівневої металізації в субмікронних структурах ВІС/НВІС та магнітних сплавів що використовуються для виготовлення магнітних дисків зовнішніх запам’ятовуючих пристроїв з досить великим об’ємом пам’яті для сучасних ЕОМ. Крім того наведено характеристики магнетронів що можуть бути використані для напилення металізації: магнетронного розпилювального пристрою з магнітним блоком, що обертається охолоджувальною деіонізованою водою, який дозволяє значно підвищити ефективність розпилення мішені; магнетронного високочастотного пристрою УМВ-2,5 з магнітною системою, що сформована на електромагнітах із скануванням магнітного поля; установки двостороннього магнетронного розпилення металевих мішеней типу УВН МДЕ.П-1250-012; Двоярусного пристрою магнетронного формування багаторівневої контактної металізації на основі установки вакуумного напилення УРМ.3.279.05;
Ключові слова: Металізація, магнетронне розпилення, тонкоплівкова технологія.

Література

[1] S.P. Novosyadlyy, R.M. Ivanyuk, Fizyka i khimiyatverdohotila 8(4), 850 (2007).
[2] J. Musila, H. Zemana, J. Kaslb, ThinSolidFilms 413(1-2), 121 (2002).
[3] H. Zemana, J. Musila, J. Vlceka, P.H. Mayrhoferb, C. Mittererb, Vacuum 72(1), 21 (2003).
[4] S. P. Novosyadlyy, Metalofizyka i novitni tekhnolohiyi 22(1), 51 (2000).
[5] S.P. Novosyadlyy, L.V. Mel'nyk, T.P. Kindrat, V.M. Varvaruk , Skhidno-Yevropeys'kyy zhurnal novitnikh tekhnolohiy 4(5), 1 (2013).
[6] J. Musila, M. Šašeka,P. Zemana, R. Cerstvýa, D. Hermana, J.G. Hanb, V. Šatavaa, Surface and Coatings Technology 202(15), 3485 (2008).